第一六五九章 從低端數控系統開始研發
「數控系統的核心技術專利和裝備，別人也不會賣給我們，我們必須自己開發和生產；一般技術專利和裝備，花錢從別的公司購買，節省時間，這也是我們開發數控系統的基本原則。我活學活用，紙上談兵，給大家想想辦法？」
孫健笑著從隨身攜帶的公文包內拿出記錄本，早有準備，進入數控工具機行業，首先要熟悉數控系統的書本知識。
「數控系統（CNC）根據功能、性能和應用場景的不同，可分為低端、中端和高端三類，它們的核心差異體現在硬體配置、軟體功能、控制精度、擴展能力以及適用領域等方面。」
「低端數控系統適用小型工具機，用於簡單的加工，比如二維切割或者基礎的車削。硬體上只需要配置低性能的處理器，支持3軸以下。軟體功能也比較基礎，沒有太多高級功能。」
「中端數控系統適用4-5軸工具機，用於三維加工和多軸控制。硬體方面需要配置工業級的低端多核處理器，支持3軸聯動或簡單多軸同步。軟體上要配置高級插補算法軟體，刀具半徑補償、動態誤差修正軟體，支持CAM軟體集成和圖形化編程界面和簡單的人機界面。」
「高端數控系統適用9軸及以上工具機，用於高精度、高複雜度的加工。硬體方面需要配置高性能多核處理器和FPGA、DSP專用晶片，支持9軸以上，支持5軸聯動及多通道同步加工。軟體方面要配備納米級精度補償軟體、自適應控制軟體、高級五軸RTCP、智能優化軟體等，不久的將來還要支持物聯網和遠程數據分析。」
「數控系統的硬體部分包括控制單元、伺服驅動、電機、傳感器、操作面板、通信模塊和電源模塊，軟體部分包括作業系統、控制軟體、編程軟體、仿真軟體、補償算法、數據管理和網絡功能。」
「控制單元就是一台高性能多核CPU；伺服驅動是一種控制系統，通過控制電機的轉速、位置和力矩，實現對負載的精確控制，伺服驅動系統使用反饋機制來監測和調整輸出，以實現精確的控制。」
「我們從低端數控系統開始研發，最後擁有具有自主智慧財產權的高端數控系統，打破發那科和西門子公司的技術壟斷和封鎖。」
「龔主任，全球最強的CPU生產廠家是哪幾家？」
「董事長，據我所知，是英特爾、AMD和國智。」
龔林眼前一亮，頓時明白了。
「由於193nm波長的世界性光學難題近十年來沒有辦法被攻克，導致全球最先進的光刻機長期停留在90nm製程工藝，英特爾和AMD的新一代CPU也被迫停止開發，給了國智CPU追趕的良機；如今，國智GZ-CX4的綜合性能已經同Pentium 4和Athlon XP並駕齊驅，相當於高端數控系統的高性能多核CPU已經被解決了，國智半導體研究院研發成功伺服驅動只是時間問題，這樣一來，數控系統硬體中控制單元和伺服驅動就沒有技術瓶頸了。」
孫健面帶微笑，侃侃而談。
啪啪……
桂寧帶頭起身鼓掌，大家都站了起來，會議室響起熱烈的掌聲，困擾江重數控工具機發展的數控系統真的能被孫董事長解決。
副所長張聞橋主持研發的CKX數控單柱移動立式銑車床，安裝Sinumerik82D，這套西門子研發的中端數控系統，售價占到這台車床總成本的近一半。
要是新江重能夠在18個月內，研製成功擁有自主智慧財產權的中端數控系統，江重的發展將會迎來新的春天。
數控系統的核心是微機數控系統，國智半導體研究院在CUP、主板、硬碟、顯卡、光碟機等計算機硬體上的整體研發能力能在全球排在前三位。
眾人不知道的是，國智CPU研究所經過近二年的研發，已經研發成功了比肩Intel第八代CPU的GZ-CX5，但需要65nm製程工藝的光刻機生產，避免刺激美國，也是密而不發。
前世，ASML推出65nm製程工藝的浸沒式光刻機後，Intel才推出第八代CPU、Core 2 Duo，AMD才推出比肩Core 2 Duo的Athlon X2（速龍X2）。
京城光刻機研究院光源研究所早於1999年7月就研製成功浸沒式光刻系統技術，研製的ArF雷射器發射的193nm光源通過純淨水的折射，得到了波長134nm的光源，解決了業界遇到的193nm波長的世界級難題，研發成功65nm製程工藝的浸沒式光刻機試驗機，避免刺激美國，密而不發，沒有申請公司發明專利，等GCA EUV光刻機股份研製的EUV雷射器研發成功後，再申請浸沒式雷射器的公司發明專利，趕在ASML之前。
浸沒式光刻機暫時不會申請公司發明專利。
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134nm波長光源的雷射器和浸沒式光刻系統專利技術會在第一時間賣給GCA使用。
鄧國輝和錢富強從1999年8月開始立項，BSEC投資1億元，帶領光刻機光源研究所，靜下心來開始研發EUV雷射器，先後投資了3.6億元，還在研究之中。
2002年1月18日，由GCA和悟空天使投資基金帶頭，分別出資5億美元和2億美元，加上INTEL、IBM、TI、AMD、摩托羅拉、Cymer、HP、台積電和三星等25家公司，共同出資50億美元成立的GCA EUV光刻機股份有限責任公司研製的EUV雷射器已經臨近尾聲。
由於重生者的緣故，65nm製程工藝的浸沒式光刻機提前研製成功，EUV光刻機也會提前研製成功。
2002年8月，參加7月2日在布魯塞爾舉行的157nm微影技術的研討會後，ASML董事長兼總裁普拉多同台積電的林本堅博士合作，採用「浸潤原理」，投入巨資，開始研製浸沒式光刻機。
鄧國輝院士在研討會上支持林本堅博士提出的「浸潤原理」，並表示京城光刻機研究院光源研究所正在研究「浸潤原理」，這三年，鄧國輝和錢富強等先後在《Science Advances》上，發表7篇研究浸沒式光源系統和浸沒式光刻機技術的科研論文，在光刻機行業引起轟動。
半導體專家預測，二年內，浸沒式光刻機將被研製成功。
Intel對Core 2 Duo，AMD對Athlon X2的研製開始加速。
(本章完)