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第331章 流片成功!

2026-04-03 20:13:15 作者: 靈台三心

  ......

  第七天。

  凌晨兩點零三分。

  帝都的夜很安靜。

  中關村的路燈壞了兩盞,沒人修。

  地下室里,VAX-11的風扇嗡嗡地轉。

  司徒淵敲下最後一個回車鍵。

  仿真程序運行了五十一分鐘。

  屏幕上的代碼,像瀑布一樣狂泄。

  三個人誰都沒坐。

  張秉謙站在屏幕左側,老花鏡推到了額頭上,反而不戴了。

  林希站在右側,雙手插在褲兜里。

  司徒淵站在正中間,手搭在鍵盤邊框上,指甲蓋發白。

  瀑布停止。

  最後三行。

  全是悅目的純綠色。

  `ISA Bus Timing: PASSED`

  `All Timing Constraints: MET`

  `Total Violations: 0`

  張秉謙摘下額頭上的老花鏡。

  他沒喊,沒笑。

  他把眼鏡折好,小心翼翼地放進胸口的口袋裡。

  然後他蹲了下去。

  

  蹲在冰涼的瓷磚地面上,雙手捂住了臉。

  肩膀在抖。

  沒有聲音。

  林希轉過頭,不去看他。

  司徒淵也轉過頭。

  去看那台冰箱大小的機器。

  米白色的外殼上,DEC的標誌在地下室的日光燈管下反著光。

  他盯著那個標誌看了幾秒。

  然後伸出手,輕輕地拍了拍機箱外殼。

  「謝了。」他用英語說。

  聲音很輕。

  直播間安靜了整整八秒。

  然後彈幕像潮水一樣湧上來。

  【零違規!!!全部通過!!!】

  【七天!三個人幹了別人一個團隊半年的活!】

  【張工那雙膝蓋上的白印到底磨掉了幾層皮啊】

  【不說了,眼睛進沙子了】

  ......

  從中關村的地下室,到津門二廠的轟鳴。

  短短几天,猶如跨越了一個時代。

  七月一號。

  津門無線電二廠。

  矽基產線全速開動。

  這是GK-3光刻機浴火重生後的第一次實彈操演。

  陳默親自操機,手指搭在對焦旋鈕上,眼睛貼著目鏡。

  光柵尺的數字跳動,伺服電機精準補償每一個微米的誤差。

  曝光。

  顯影。

  矽片上的線條清晰銳利,邊緣筆直。

  刻蝕環節,BOE槽液控溫穩定在三十五度。

  第一批矽片過檢,溝槽完美。

  陳默回頭沖林希豎了個大拇指。

  直到離子注入。

  長安771所支援的國產離子注入機是十年前的老型號。

  蘇佩蘭和王鐵山兩個老師傅在機器旁邊守了一天一夜,反覆調整參數。

  打出來的矽片,送到顯微鏡下一看。

  摻雜深度分布不均勻。

  有的區域深了,有的區域淺了。

  像一塊沒發好的面,有些地方鼓著,有些地方癟著。

  直接後果:晶片漏電。

  測試探針紮下去,電流一路跑偏,根本鎖不住。

  蘇佩蘭試了七組參數,全部失敗。

  「機器太老了。」

  她摘下防塵面罩,額頭上全是汗。


  「束流不穩,真空也拉不到位。」

  車間裡的氣氛沉下去了。

  光刻過了,刻蝕過了,偏偏倒在了最基礎的摻雜上。

  林希站在注入機旁邊,手扶著冰涼的金屬外殼。

  他閉上眼睛。

  腦海中,直播間的彈幕已經開始翻湧。

  【離子注入!關鍵參數來了!!!】

  【我查了771所這批機器的資料——核心問題是束流電流太低導致注入時間過長,矽片在真空腔里受熱不均勻!】

  【解法很簡單但很反直覺——把束流電流提上去!10mA!加速電壓拉到50keV!讓注入時間縮短,減少熱積累!】

  【最關鍵的一步:真空度!必須拉到10的負5次方帕斯卡!不然殘餘氣體會和離子束髮生散射,雜質分布肯定不均勻!】

  【對!這台老機器的分子泵其實能達到這個真空度,但出廠預設太保守了,得手動調旁通閥把抽速拉滿!】

  林希睜開眼。

  「蘇師傅。」

  蘇佩蘭回頭。

  「束流電流調到10毫安。」

  「加速電壓拉到50千電子伏特。」

  蘇佩蘭愣了一下。

  「電流10毫安?」

  「這台機器設計上限才8……」

  「旁通閥全開,把真空度拉到10的負5次方帕。」

  林希的聲音很穩,

  「抽速夠了以後,束流不會散。」

  蘇佩蘭看了看旁邊的王鐵山。

  王鐵山沉默了幾秒,走到機器後面。

  蹲下去看了看分子泵的參數銘牌。

  「能拉到。」

  他直起腰,

  「負5次方沒問題,就是沒人敢這麼用。」

  「那就用。」林希說。

  王鐵山沒再猶豫。

  他抱著扳手繞到機器背面,擰開旁通閥。

  蘇佩蘭深吸一口氣,坐回操作台。

  束流電流:10mA。

  加速電壓:50keV。

  真空度讀數開始往下掉。

  10的負3次方。

  負4次方。

  分子泵的聲音變得尖銳。

  負5次方。

  穩住了。

  「注入。」林希說。

  蘇佩蘭按下啟動鍵。

  機器轟鳴聲驟然變調,像一頭沉睡的野獸被喚醒。

  離子束擊中矽片表面。

  六十秒。

  一百二十秒。

  注入結束。

  蘇佩蘭取出矽片,雙手端著,走到顯微鏡前。

  車間裡所有人的呼吸都停了。

  她把矽片放上載物台,調焦。

  看了三秒。

  又調了一下倍率。

  再看了五秒。

  她抬起頭。

  嘴唇哆嗦了兩下。

  「均勻的。」

  她的聲音帶著哭腔。




  王鐵山衝過去,把她從椅子上擠開,自己趴到目鏡上看。

  看完,他直起腰,一屁股坐在了地上。

  「成了。」

  兩個字。

  直播間彈幕徹底爆炸。

  【流片成功!!!華國矽基晶片流片成功了!!!】

  【1983年!自主光刻機+自主離子注入!流片流程打通!】

  【這幫老師傅是真的牛,參數給到位了,手上的活一點不含糊】

  【哭了哭了,跪在地上畫版圖,趴在機器前調參數,這就是華國晶片的第一步】


  林希站在車間中央。

  周圍是沸騰的歡呼聲。

  林希轉頭看向窗外。

  七月底的津門,太陽正落。

  晚霞把整個二廠的廠房染成暗紅色。

  司徒淵不知道什麼時候走到他旁邊。

  兩人並排站著,看著窗外。

  「林總。」司徒淵開口。

  「嗯。」

  「流片成功了,但這只是工程樣片。」

  司徒淵推了推眼鏡。

  「量產之前,還差最後一步,」

  「封裝,測試。」


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